濺射是一種先進的薄膜材料制備技術, 它利用離子源產生的離子, 在真空中加速聚集成高速離子流, 轟擊固體表面, 離子和固體表面的原子發生動能交換, 使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面, 從而形成納米或微米薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料, 稱為濺射靶材。鎢靶材和鉬靶材可在各類基材上形成薄膜, 這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品, 如目前廣泛應用的TFT - LCD ( 薄膜半導體管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無機光發射二極管顯示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMOS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等 。
愛科麥可生產的鎢濺射靶材包括鎢平面靶材和鎢旋轉靶材，以配合不同型號的磁控濺射設備使用。在使用過程中，鎢旋轉靶材的利用率遠大于鎢平面靶材。
由于使用了熱等靜壓技術，愛科麥生產的鎢靶材的密度接近理論密度，其組織均勻性及純度等指標均受到了客戶好評。
衡量鎢靶材的質量主要因素有 純度、致密度、晶粒尺寸及分布等。在這些方面，愛科麥投入了大量的資金和精力進行研發并取得了顯著成效。并形成了具有以下特點的生產工藝（1）選擇高純鎢粉作為原料; ( 2)獨有的成形燒結技術, 以保證靶材的低孔隙率, 并控制晶粒度; ( 3)制備過程嚴格控制雜質元素的引入。（4）大尺寸鎢鉬材料的細晶軋制技術。（5）對部分高要求產品采用熱等靜壓方法，*大程度地獲得了鎢靶材的良好性能。如此方法制得的鎢靶材獲得了18.6以上極高密度細晶粒產品。
此外，愛科麥生產近期致力于以下產品的研發并取得了突破：
1.產品大型化 生產出了單張尺寸規格為1 430mm *1 700mm *10 mm適合于G5代TFT鍍膜設備的鉬及鉬鉭靶材。對于更大的產品減少了拼接的數量。
2.為適應市場提高靶材利用率需求，正在研發制造長度超過3米的燒結旋轉靶材，此種方法生產的鉬靶材與噴涂法相比，具有質密的優勢。
3.新興的鎢鈦靶材的研制